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| Title | 국내 최초로 300mm 반도체 산화물 식각장비 하이닉스에 공급 | 2007-11-01 |
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당사는 오는 12월 하이닉스반도체 양산공장에 국내 최초로 300mm 산화물 식각장비를 공급할 예정에 있습니다. 플라즈마 발생 장치인 ACP (Adaptively Coupled Plasma) 소스에 대한 원천기술을 보유하고 있으며, 산화물 식각에 코일 방식을 이용하여 세계 최초로 양산에 적용한 것으로 그 의미가 크다고 할수 있습니다. 반도체용 식각 장비는 반도체 제조에 필요한 필수 장비이며, 반도체 웨이퍼 위에 포토 레지스트터나 하드 마스크로 형성된 패턴에 따라 플라즈마를 이용해 하부막을 제거하는 공정에 사용되는 주요 공정 장비로, 기존 어플라이드머티리얼스ㆍ램리서치ㆍ도쿄일렉트론 등 해외 기업들이 독점해 왔습니다. 당사는 200mm 제조 공장에 금속 식각 장비를 공급하여 그 기술력 및 양산성을 인정받은 바 있으며, 300mm 산화물 식각 장비 개발을 위하여 하이닉스와 1년여 기간의 공동 개발 기간을 거쳤습니다. 300mm 식각 장비 개발 및 공급에는 당사의 기술력 뿐 아니라, 하이닉스의 반도체 장비소재 산업 국산화에 대한 의지와 지원의 결과라고 할 수 있수 있습니다. 하이닉스는 과거 200mm 제조에 대한 투자 여건이 나쁠 때 외산 장비에 비해 상대적으로 저렴한 국산 장비를 채택함으로써 장비 국산화에 기여한 전력을 갖고 있습니다. 당사가 산화물 식각 공정의 개발 성공 및 공급함으로써 상당한 수입 대체 효과가 기대됩니다. 이번에 판매된 300mm 산화물 식각 장비는 부품소재기술개발사업의 일환으로 산자부로부터 지원을 받아 수행된 과제를 통해 개발되었으며, 300mm 금속 식각 장비도 동사와 개발 및 평가 중에 있습니다. 또한 당사는 2006년 정밀기술진흥대회 대통령상, 올해 초 장영실상 국무총리 상을 수상하였으며 2007년 반도체 기술대상 국무총리상을 수상하였습니다. |
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