Notice
| Title | 300mm Oxide Etching System Customer JDP 성공 | 2007-06-12 |
|---|---|---|
|
지난 5월 APTC는 국내 반도체 Memory Device 제조사와 진행한 300mm Oxide Etching System에 대한 공동개발 Project를 성공리에 완수하였으며, 이로써 최첨단 공정에 대한 Mass Production 능력이 입증되었습니다. 이번 양산에 성공한 APTC 300mm Oxide Etching System은 세계 최초 ACP Type Plasma Source를 장착하여 차세대 공정영역까지 대비함에 따라 전세계 Etching시장에 일대 혁신이 있을 것으로 예상됩니다. |
||