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| Title | "2006년 4/4분기 특허기술상에서 지석영상 수상" | 2006-12-26 |
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"2006년 4/4분기 특허기술상에서 지석영상 수상" 당사의 플라즈마 소스가 또 다시 국내외적으로 인정을 받아서, 2006년 4분기의 특허 기술상에서 영예의 지석영상을 수상하였습니다. 특허청과 중앙일보가 공동으로 수여하는 본 시상식은 12월 21일(목) 한국지식재산센터(KIPS, 강남구 역삼동 소재)에서 개최되었습니다. 지석영상은 '균일한 플라즈마 발생을 위한 코일 구조 및 이를 이용한 플라즈마 챔버'라는 제목으로 당사의 김남헌 대표이사 외 1명이 수상자로 선정되었습니다. 지석영상을 수상한 '균일한 플라즈마 발생을 위한 코일 구조 및 이를 이용한 플라즈마 챔버'는 웨이퍼 가장자리 영역에서의 플라즈마 밀도는 효율적으로 증대시키고, 웨이퍼 중심 부분에 대응하는 영역에서의 밀도는 효율적으로 감소시킴으로써, 플라즈마챔버 내부에서의 플라즈마 분포를 균일하게 할 수 있는 기술을 말합니다. 종래 기술에 비해 소스파워가 약 1/3 ~ 1/4 수준으로 낮아지게 되어, 에너지 절감 및 열 발생 저하 효과가 있으며, 플라즈마 데미지가 발생하지 않아 탄소 성분 오염 현상이 매우 낮은 우수한 기술로 평가되고 있습니다. 특허기술상은 특허청에 등록된 우수발명을 발굴•시상함으로써 발명자의 사기와 발명의욕을 고취시키고, 범국민적 발명분위기 확산을 위해 1992년부터 시행되어 왔으며, 수상 기술은 특허청 심사관의 추천과 내외부 전문가로 구성된 심사협의회 등 엄격한 심사과정을 통해 매 분기별로 우수 특허 3건과 디자인 1건이 선정되고 있습니다. |
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