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Title [보도] IR52 장영실상 / APTC (반도체 200mm 식각시스템) 2006-02-15
◆IR52장영실상 / APTC [반도체 200㎜ 식각시스템]◆
2006년 7주째 IR52 장영실상은 APTC가 개발한 '반도체 200㎜ 메탈 식각시스템'이 받았다.

이 장비는 반도체 제조공정 과정에서 실리콘 웨이퍼상에 형성된 회로 패턴 외에 불 필요한 부분을 제거하는 기능을 하며 지름 200㎜ 웨이퍼용이다.

APTC는 300㎜ 웨이 퍼 식각 장비도 개발하고 있다.

◆ 제품ㆍ기술 특징

＝APTC는 기술적인 어려움을 극복하고 독창적으로 제작한 특수 코일을 이용해 플라즈마 발생 소스를 만들어냈으며 반도체 공정에 적합하게 재설계 하는 데 성공했다.

오영근 연구소장은 "플라즈마 발생 소스는 CCP(용량성 결합 플라즈마) 방식과 ICP( 유도성 결합 플라즈마) 방식으로 나뉘는데 APTC가 개발한 ACP(순응성 결합 플라즈 마) 방식은 두 가지 방식 장점을 모두 가지고 있어 낮은 플라즈마 소스 파워로 높 은 수율을 올릴 수 있었다"고 설명했다.

오 소장은 "600W의 낮은 플라즈마 소스 파워로 인해 공정영역이 넓어졌고 식각 속 도와 선택비를 조절할 수 있게 돼 생산성이 높아졌으며 유지비와 소모품 비용을 줄 일 수 있게 됐다"고 덧붙였다.

APTC 식각 시스템은 산업자원부에서 선정한 2005년 대한민국 10대 신기술에도 올랐 다.

◆ 경제 파급 효과

＝반도체 웨이퍼 식각 장비 세계시장 규모는 약 6조원이며 국내 시장 규모는 약 6000억원으로 해마다 시장 규모가 커지고 있다.

오 소장은 "APTC가 국내 최초로 반도체 웨이퍼 식각 장비 양산에 성공해 상당한 수 입대체 효과와 함께 세계시장에 수출하는 효과를 누릴 수 있게 됐다"고 자부했다.

APTC는 2004년 첫 매출을 올린 데 이어 2005년에는 130억원을 기록했고 2006년에는 수출을 포함해 약 500억원을 기대하고 있다.




앞으로 미국 AMAT와 LAM, 일본 TEL에 이은 세계 4대 반도체 웨이퍼 식각 장비업체 대열에 합류할 것이라고 APTC는 전망 했다.

하지만 앞으로 국산화율을 더욱 높여야 한다는 점은 과제로 꼽힌다.

[김인수 기자] < Copyright ⓒ 매일경제. 무단전재 및 재배포 금지 >



2006.02.12 16:56 입력