연혁
History
2014년
~
현재
2008년
~
2013년
2002년
~
2007년
2019
  • 12. 무역의날 수상(3천만불의 탑)
  • 10. 미국 현지법인 설립(워싱턴)
  • 05. SK하이닉스 동반성장협의회 회원사 선정
2018
  • 12. 무역의날 수상
    (1천만불의탑, 산업통상자원부장관표창)
  • 11. 대표이사 변경 - 최우형
  • 08. 코스닥 시장 상장(한국거래소)
  • 04. 이달의 산업기술상 / 산업화기술 부문 장관상 수상
    (산업통상자원부장관)
  • 04. 300mm Poly Etcher Leo NK I-C /
    중국 SK Hynix WUXI법인 /수출 판매 성공
2017
  • 12. 300mm Poly Etcher NK I-C 양산판매 성공
    (SK Hynix)
  • 03. 기술혁신기업 선정 (SK Hynix)
2016
  • 06. 300mm Poly Etcher Leo NK I-C 개발
  • 01. 300mm Poly Etcher NK I 양산판매 성공
    (SK Hynix)
2015
  • 11. SEMI S2-0712a 인증 획득(TUV NORD)
  • 05. 300mm Poly Etcher Leo NK I 개발
2013
  • 07. 300mm 플라즈마 도핑 장비 APIS 300 판매
    (SK Hynix)
  • 02. 300mm Poly Etcher Polaris 300 판매
    (SK Hynix)
2010
  • 11. 300mm 플라즈마 도핑 장비 공동개발을 위한 장비납품
    (SK Hynix)
  • 04. LED Etcher 양산판매(LGIT)
2009
  • 07. 국내최초 300mm Metal Etch System 양산 판매 성공(Hynix)
2008
  • 03. 하이닉스협의회 회원업체 선정
2007
  • 12. 300mm Oxide 식각 시스템 양산 판매 성공(Hynix)
  • 09. 제9회 반도체 기술대상 국무총리상 수상
2006
  • 07. 기술혁신형 중소기업(Inno-Biz) 선정
  • 03. 본사 및 공장 확장이전 (경기도 이천 소재)
  • 01. IR52 장영실상 수상
  • 01. ISO 9001/14001 인증 획득
2005
  • 12. 차세대 세계일류상품 선정 (산업자원부)
  • 12. 대한민국 10대 신기술(산업자원부)
  • 10. 해외규격 인증 획득 (CE, CEMI)
  • 07. 200mm Metal Chamber 14대 판매 (Hynix)
2004
  • 12. 300mm 산화물 식각 시스템 공동개발 (Hynix)
  • 10. NT (New Technology) Mark 인증
    (산업자원부 기술표준원)
2003
  • 03. APTC(주) 기업부설연구소 설립
  • 03. 중기청 벤처기업 지정 (신기술기업)
  • 02. 200mm 산화물 식각챔버 공동개발 성공적 완료
2002
  • 02. APTC(주) 설립